• 全自動濕法處理係統

    1. 生產廠家:德國Osiris
    2. 產品型號:CHEMIXX 1201

    CHEMIXX 1201是全自動濕法處理係統,配置cassette to cassette 或foup,,支持12寸及以下尺寸晶圓或9 x 9 英寸方片的濕法處理,包括蝕刻、清潔或顯影工藝。該係統可配...

    更新時間:2022-11-25

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  • 大尺寸濕法處理係統

    1. 生產廠家:德國Osiris
    2. 產品型號:CHEMIXX 760

    CHEMIXX 760係統是一款大尺寸濕法係統,支持最大樣品達535X535mm(21寸方片),更大的樣品尺寸可定製,一台係統可實現清洗、蝕刻 、顯影 ,幹燥整個工藝過程。...

    更新時間:2022-11-25

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  • 濕法刻蝕專用係統

    1. 生產廠家:德國Osiris
    2. 產品型號:CHEMIXX E 30Pm

    CHEMIXX E 30 濕法刻蝕係統專門用於掩膜版與晶圓的刻蝕與清洗,安全性能好,可使用 H2SO4, H2O2,NH4OH,HF,BOE等液體。...

    更新時間:2022-11-25

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  • CMP後雙麵清洗機

    1. 生產廠家:德國Osiris
    2. 產品型號:CHEMIXX CMP 30pm

    CHEMIXX CMP 30pm是一款專門為晶圓雙麵清洗設計的係統,獨立係統,占地麵積小,非常適合有限的空間。具有4路化學液清洗,兆聲清洗,雙麵PVA刷洗,去離子水衝洗等清洗模塊,對晶圓有頂級的清洗能...

    更新時間:2022-11-25

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  • 標準濕法處理係統

    1. 生產廠家:德國Osiris
    2. 產品型號:CHEMIXX 30pm

    CHEMIXX 30pm濕法台是一款半自動單麵濕法係統,主要用於晶圓或者方片的清洗,刻蝕,顯影等應用,其中清洗部分具有化學清洗,兆聲清洗,PVA刷洗,高壓DI水衝洗,背部清洗等多種功能。...

    更新時間:2022-11-25

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  • 12寸晶圓顯影機

    1. 生產廠家:德國Osiris
    2. 產品型號:UNIXX DB20/30

    UNIXX DB30 型晶圓顯影機是一款針對12寸及以下尺寸晶圓的半自動係統,係統可集成顯影,清洗,幹燥等模塊,同時可用於方片顯影,最大尺寸230mm*230mm。...

    更新時間:2022-11-25

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  • 8寸晶圓顯影機

    1. 生產廠家:德國Osiris
    2. 產品型號:UNIXX D20

    UNIXX DB20 型晶圓顯影機是一款針對8寸及以下尺寸晶圓的半自動係統,係統可集成顯影,清洗,幹燥等模塊,同時可用於方片顯影,最大尺寸150mm*150mm。...

    更新時間:2022-11-25

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  • 手動晶圓烘焙熱板係統

    1. 生產廠家:德國Osiris
    2. 產品型號:UNIXX HTp20

    UNIXX HTp20型熱板是一款手動桌麵型烘焙係統,采用手動PID控製器和定時器開關可確保高的溫度控製精度。用於晶圓的單麵烘烤,可用於預烘烤(Pre-bake),前烘(soft bake),底膠塗覆...

    更新時間:2022-11-24

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  • 半自動晶圓烘焙熱板係統

    1. 生產廠家:德國Osiris
    2. 產品型號:UNIXX HTe20

    UNIXX HTe20型熱板是一款桌麵型半自動烘焙係統,用於晶圓的單麵烘烤,可用於預烘烤(Pre-bake),前烘(soft bake),底膠塗覆(Primer Vapor)和後烘烤(hardbake...

    更新時間:2022-11-24

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